| 000 | 00000nam c2200205 k 4500 | |
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| 005 | 20240926105837 | |
| 007 | ta | |
| 008 | 031013s2003 ggka WC 000a korBU | |
| 020 | ▼c \6520 | |
| 040 | ▼a 211009 ▼c 211009 ▼d 211009 | |
| 049 | 1 | ▼l 121084813 ▼f 과학 |
| 082 | 0 4 | ▼a 621.38152 ▼2 21 |
| 088 | ▼a M1-0104-00-0071 | |
| 090 | ▼a 621.38152 ▼b 2003c | |
| 110 | ▼a 제주대학교 ▼0 AUTH(211009)42947 | |
| 245 | 1 0 | ▼a 초고집적소자의 적용 nano-pore 구조를 갖는 저유전 박막 형성과 공정기술 개발연구 = ▼x Study on development and processing technology for the formation of the low dielectric thin films with nano-pore structure / ▼d 제주 대학교 [주관연구]. |
| 260 | ▼a 과천 : ▼b 과학기술부, ▼c 2003. | |
| 300 | ▼a 141,[20] 장 : ▼b 삽도 ; ▼c 30 cm. | |
| 440 | 0 0 | ▼a 국가지정연구실사업 = ▼x National research laboratory |
| 500 | ▼a 주관연구책임자: 최치규 | |
| 500 | ▼a 위탁연구기관: 한국과학기술원 | |
| 500 | ▼a 위탁연구기관명: 장홍영 | |
| 504 | ▼a 참고문헌: 136-141장 | |
| 700 | 1 | ▼a 최치규, ▼e 주관연구책임. |
| 710 | ▼a 한국. ▼b 과학기술부, ▼e 편 ▼0 AUTH(211009)148152 |
소장정보
| No. | 소장처 | 청구기호 | 등록번호 | 도서상태 | 반납예정일 | 예약 | 서비스 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| No. 1 | 소장처 과학도서관/보존서고5(동양서)/ | 청구기호 621.38152 2003c | 등록번호 121084813 (1회 대출) | 도서상태 대출가능 | 반납예정일 | 예약 | 서비스 |
컨텐츠정보
목차
제1장 연구 개발 과제의 개요(Introduction) = 11 제2장 국내외 기술개발 현황(State of art) = 13 제3장 연구개발수행 내용 및 결과(Research of details) = 18 제1절 UV-source assisted HDPCVD 구성 및 실험방법 = 18 제2절 연구 수행 방법 = 23 제3절 SiOC(-H) 박막의 물리·화학적 결합구조 분석 = 26 제4절 SiOC(-H) 박막의 전기적 특성 분석 = 50 제5절 SiOC(-H) 박막의 유전 특성 분석 = 53 제6절 SiOC(-H) 박막의 기계적 특성 분석 = 59 제7절 SiOC(-H) 박막의 Nano-Pore 특성 분석 = 63 제8절 UV-source assisted multi source PECVD 장치의 plasma 특성 분석 = 68 제9절 UV-source 제작 및 특성분석 = 86 제10절 Sulfur에 의한 UV 방출 mechanism = 91 제11절 불소화 비정질 탄소(a-C:F)박막의 특성 = 103 제4장 목표 달성도 및 관련분야에의 기여도(Degree of reaching the goal and contribution) = 127 제5장 연구개발결과의 활용계획(Plan of utilizing the research reults) = 130 제6장 연구개발과정에서 수집한 해외과학기술정보(The collected scientific information of overseas during performing the research project) = 133 제7장 참고문헌(References) = 136