상세정보

목차
역자 서문 = ⅴ
저자 서문 = ⅶ
1장 플라즈마 기초
 1.1 서론 = 1
 1.2 플라즈마 정의 = 2
 1.3 플라즈마 변수들 = 5
 1.4 플라즈마 존재 조건 = 20
 1.5 플라즈마 내 하전 입자의 확산 = 20
 1.6 플라즈마 종류(plaxma types) = 23
 1.7 연습문제 = 26
 1.8 참고문헌 = 27
2장 저온 플라즈마 발생
 2.1 DC 글로우 방전(DC glow discharge) = 29
 2.2 라디오 주파수 방전들(radio frequency discharges) = 37
 2.3 마이크로파 플라즈마(microwave plasmas) = 46
 2.4 전자 사이클로트론 공진 플라즈마(electron cyclotron resonance plasmas) = 47
 2.5 연습문제 = 51
 2.6 참고문헌 = 53
3장 플라즈마 화학작용(plasma chemistry)
 3.1 서론 = 55
 3.2 용어 정의 = 57
 3.3 화학 반응들(chemical reactions) = 58
 3.4 화학반응사슬(the chemical reaction chain) = 78
 3.5 플라즈마 표면 상호작용 = 81
 3.6 연습문제 = 97
 3.7 참고문헌 = 98
4장 플라즈마 장치(plasma reactor)
 4.1 플라즈마 장비 = 103
 4.2 DC 반응 용기 = 111
 4.3 RF 반응 용기 = 111
 4.4 마이크로파 플라즈마 원 = 119
 4.5 ECR 플라즈마 용기 = 123
 4.6 자기장을 사용하는 플라즈마 원들 = 126
 4.7 원거리 PECVD 플라즈마 = 128
 4.8 반응 용기 클러스터(reactor clusters) = 130
 4.9 연습문제 = 131
 4.10 참고문헌 = 133
5장 플라즈마 진단(plasma diagnostics)
 5.1 질량 분석 = 136
 5.2 정전 탐침(electrostatic probes) = 152
 5.3 광학적 방법(optical methods) = 162
 5.4 연습문제 = 174
 5.5 참고문헌 = 176
6장 표면 개질을 위한 저온 플라즈마 공정
 6.1 개요 = 179
 6.2 고분자 표면 개질(surface modification of polymers) = 181
 6.3 표면 세정(cleaning)과 애싱(ashing) = 190
 6.4 산화(oxidation) = 197
 6.5 표면 경화(surface hardening) = 202
 6.6 연습문제 = 209
 6.7 참고문헌 = 210
7장 PECVD로 코팅 증착(deposition of coatings by PECVD)
 7.1 유기막 증착 = 215
 7.2 무기막 증착 = 229
 7.3 연습문제 = 251
 7.4 참고문헌 = 252
8장 플라즈마 증진 식각(plasma assisted etching)
 8.1 서론 = 261
 8.2 플라즈마 식각(plasma etching) = 265
 8.3 활성 이온 식각(reactive Ion etching, RIE) = 269
 8.4 몇몇 물질들의 식각 = 278
 8.5 식각 동안의 기판 손상 = 291
 8.6 연습문제 = 292
 8.7 참고문헌 = 293
찾아보기 = 297