목차
제1장 서론 = 1
1. 연구의 목적과 필요성 = 1
가. 연구의 배경과 필요성 = 1
나. 연구의 목적 = 3
제2장 기슬동향 분석 = 5
1. 플라즈마의 개요 = 5
가. 플라즈마의 정의 = 5
나. 플라즈마의 특징 = 7
(1) 전기적 특성 = 7
(2) 화학적 특성 = 7
(3) 물리적 특성 = 8
(4) 자기적 특성 = 8
다. 플라즈마 공정의 장점 = 8
(1) 건식 공정 = 9
(2) 저온 공정 = 9
(3) 초미세 식각 = 9
2. 플라즈마 장치의 종류 = 10
가. 비열플라즈마(Non-Thermal Plasma) = 11
(1) 코로나 방전(Corona Discharge) = 11
(2) 직류 글로우 방전(DC Glow Discharge) = 15
(3) 교류 방전 플라즈마(RF Discharge Plasma) = 19
(4) 마이크로파에 의한 플라즈마 발생원 = 24
(5) 헬리콘 플라즈마(Helicon Plasma) = 27
나. 열플라즈마(Thermal Plasma) = 29
(1) 열플라즈마의 발생 = 30
3. 플라즈마 장치의 응용 = 35
가. 비열플라즈마의 응용 = 35
(1) 반도체 제조 공정 = 35
(2) 표면처리 = 44
(3) 나노 미립자 제조 = 46
(4) 정보 디스플레이 장치 = 47
나. 열플라즈마의 응용 = 48
(1) 표면처리 = 48
(2) 초미립자 제조 = 51
제3장 기술ㆍ특허 정보분석 = 53
1. 문헌정보 분석 = 53
가. 정보 분석 대상 DB와 검색조건 = 53
나. 나노공정용 플라즈마 기술 동향 = 55
(1) 전체 문헌동향 = 55
(2) 주요국가 및 연구기관 동향 = 56
다. 나노공정용 플라즈마장비 동향 = 57
(1) 연도별 동향 = 57
(2) 주요국가 및 연구기관 동향 = 59
라. 나노공정용 플라즈마 응용기술 동향 = 62
(1) 연도별 동향 = 62
(2) 주요 국가 및 연구기관 동향 = 64
2. 특허정보 분석 = 67
가. 분석범위 및 방법 = 67
나. 나노공정용 플라즈마기술 특허동향 = 69
(1) 나노공정용 플라즈마기술 특허동향 = 69
(2) 주요 특허출원 기관 = 69
다. 나노공정용 플라즈마장비 특허동향 = 72
(1) 연도별 동향 = 72
(2) 주요 장비 특허동향 = 73
(3) 주요 연구기관 = 76
라. 나노공정용 플라즈마 응용기술 특허동향 = 77
(1) 연도별 동향 = 77
(2) 주요 응용기술 특허동향 = 77
(3) 주요 연구기관 = 80
제4장 산업 및 시장동향 = 83
1. 나노공정용 플라즈마기술의 산업응용 = 83
2. 반도체 및 반도체 장비의 산업동향 = 84
3. 나노입자의 산업동향 = 86
제5장 결론 = 89
참고문헌 = 93
